PGMEA
实现超微细图案的核心材料,
环保高纯度PGMAEA的国产化
为形成纳米级精密图案，半导体电路正以极紫外(EUV)曝光工艺为中心不断优化升级，
因此，行业对光刻胶(PR)和稀释剂(Thinner)等工艺用材料的纯度和安全性的要求也越来越高。
Chemtronics开发环保超高纯度(99.999%)PGMEA，正在扩大高附加值半导体材料事业规模
Chemtronics自主合成并量产99.999%(5N)超高纯度的
PGMEA(丙二醇单甲醚乙酸酯)，其为EUV曝光工艺用光刻胶(PR)的核心溶剂。
公司将金属性杂质及毒性异构体的浓度分别降至
ppt(一万亿分之一)和1.5ppt以下，确保达到国
际标准的质量。
PGMEA主要用途
- 半导体8大工艺中
主要ITEM
本公司开发/量产PMGEA及各种半导体材料。
